2022年5月度Web版 SSISフォーラム開催案内
一般社団法人 半導体産業人協会
理事長 内海 忠
講演企画委員長 有門 経敏
平素、半導体産業人協会の活動に格別のご支援を賜り、厚くお礼申し上げます。
2022年5月度SSISフォーラムでは株式会社FLOSFIAの四戸孝様をお招きし、『α型酸化ガリウムパワー半導体の開発』についてご講演をいただきます。皆様の積極的なご参加をお願い申し上げます。
講演概要
講演要旨
実用化が進む炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)などよりもさらに低損失で生産コストも抑えられるパワー半導体材料として、α型酸化ガリウム(α-Ga2O3)が急速に注目を集めている。
2008年に京都大学から非真空プロセスであるミストCVD法により初めての結晶成長が報告され、2015年にはSiC-SBDの1/7の特性オン抵抗を持つ縦型SBDの試作例が報告された。その後、実用化を見据えたプロセス開発が進められ、金属支持基板上に薄膜のα-Ga2O3を張り合わせたウェハレベルのプロセスが構築された。
現在、サンプル出荷が開始され、SBDをPFC電源ボードの昇圧部に搭載した評価用ボードも販売されている。
また、スイッチング素子としてのMOSFETについてもノーマリオフの動作実証、高チャネル移動度の実証が進められている。
本講演では、実用化が始まろうとしているα型酸化ガリウムパワー半導体の最新技術動向を紹介する。
日時 |
2022年5月25日(水) 15時~17時 |
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Webツール | Webex(Cisco社製)を使用 |
参加費 | 個人会員、賛助会員、準会員:無料 一般:3,000円(消費税込み) |
締め切り | 5月18日(水) ただし、150名に達した時点で締め切らせていただきます。 |
参加申し込み |
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Webexを初めて利用される場合、下記の接続手順を参考にして下さい。 https://help.webex.com/ja-jp/n665eiq/Join-a-Cisco-Webex-Meeting-for-the-First-Time-as-a-Guest また、Webexのさらに詳しい利用方法については、下記の「使い方ガイド」をご一読下さい。 https://www.cisco.com/c/m/ja_jp/solutions/webex/how-to-use.html |
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申し込み 詳細資料 |
講演内容詳細・お申込みなどはこちらの詳細資料からご確認ください。 |
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