2017年4月度 SSISフォーラム開催案内

一般社団法人 半導体産業人協会
理事長　内海 忠
講演企画委員長　増原 利明

平素、SSISフォーラムにご出席いただき、厚くお礼申し上げます。2017年4月度フォーラムは下記の内容で開催する予定です。奮ってご出席、ご討論にご参加いただければ幸いです。

講演概要.1

「半導体とコンピュータとのハーモニックイノベーションと
その産業化ロードマップについて」

講師：林 喜宏氏　デバイスシステムロードマップ委員会 委員長（ルネサスエレクトロニクス（株））

世界各極との議論をベースに半導体デバイスとコンピュータアーキクチャとのハーモニックイノベーションとその産業化ロードマップを考えるシステムデバイスロードマップ委員会（SDRJ: The System Device Roadmap committee of Japan )の取り組みについて、ご説明いたします。SDRJでは、人間/機械系のシームレス新共生社会を想定した、2016年-2030年のロードマップを検討いたします。

半導体産業をけん引してきたITRS (International Technology Roadmap for Semiconductors: 国際半導体技術ロードマップ)が、2016年に終結いたしました。その後、その後継団体として、IEEE内に、新しいロードマップ委員会、IRDS（International Roadmap for Devices and Systems）が設立されました。ここでは、半導体技術進展をベースにしつつ、情報処理コンピュータアーキテクチャやデバイスシステムアーキテクチャのイノベーションを取り込んだアプリケーションドリブンのロードマップが議論され、すでにそのWeb-siteが開設され、White paperも公開されました（　http://irds.ieee.org/　）。

SDRJは、世界各極に存在するロードマップ組織の国内ハブ機能としての組織を目指しますが、まず現時点で最も国際組織化が進展しているIRDSに対応した日本国内ロードマップを議論する組織とします。議論対象は2016～2030年、スマート社会インフラに対応した非ノイマン型コンピュータアーキテクチャおよび非ムーア型半導体デバイス（新構造FETや新材料BEOL不揮発メモリ/スイッチ）などの導入を想定し、①情報処理コンピュータアーキテクチャ（ソフトウエア）、②それを構成する半導体デバイス/プロセス技術、③さらに半導体材料・製造技術、に関するロードマップを横断的に議論してゆきます。

SDRJ委員会のミッションは、国際議論を介し、“ロードマップを創る”ことにあります。自らの得意分野の殻にとどまることなく、新領域の技術潮流にも目を光らせ、2030年の真のあるべき姿を描くべく、果敢に挑戦してゆきます。

講演概要.2

「リソグラフィー技術最前線」

講師：石内 秀美氏　先端ナノプロセス基盤開発センター（EIDEC）代表取締役社長

昨今、ムーアの法則の終焉が議論されておりますが、半導体集積回路の微細化が急に止まるわけではなく、少なくとも、２０２５年ごろまでは微細化が進んでいくと予想されています。半導体についての国際ロードマップや国際会議の発表論文を紹介して、リソグラフィー技術の最前線で何が起こっているのかを概説します。

ArF液浸露光装置にリソグラフィーとマルチパターニング、EUV（極端紫外光）によるリソグラフィーの開発状況と量産化に向けた動き、DSA(Directed Self Assembly)技術などについてわかりやすくお話しします。

開催要領

日時	2017年4月13日(木) 　15：30－19：00
プログラム	15:30　～　16:30 「半導体とコンピュータとのハーモニックイノベーションと その産業化ロードマップについて」 ～林 喜宏氏～ 16:45　～　17:45 「リソグラフィー技術最前線」 ～石内 秀美氏～ 18:00　～　19:00 交流会（@林野会館　6F　604号室）
会場	林野会館（東京・茗荷谷）5Fホール 文京区大塚3-28-7、TEL.03-3945-6871 地下鉄東京メトロ丸の内線「茗荷谷」駅より徒歩７分
参加費	SSIS会員 3,000円（交流会参加費含） 一般 4,000円（講演のみ）　 6,000円（講演及び交流会） 参加費は当日会場にて申し受けます。なお、会員でない方は、当日の入会が可能です。
参加申し込み	SSIS事務局行（FAX：03-6457-3246　E-Mail ：info@ssis.or.jp でも承ります）
会場案内
詳細資料	講演内容詳細・お申込みなどはこちらの詳細資料からご確認ください。 2017年4月度SSISフォーラムのご案内（pdf）

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